Contenuti
Laboratori
PECVD
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition
PORTA 900s (Plasma Electronics - Antec)
Impianto per la deposizione PECVD che consente l’uso fino a tre differenti precursori. La camera di deposizione misura 900×900×900 mm³ ed è utilizzata per la ricerca e la produzione di piccole serie. Il plasma può essere generato mediante accoppiamento capacitivo RF, pulsato DC oppure microonde. La camera è dotata di un doppio sistema di pompaggio selezionabile (screw+root o screw+turbo) e consente l’uso di precursori corrosivi.
MP500 (Microcoat)
Questo sistema è principalmente finalizzato alla ricerca. Il plasma può essere generato mediante RF, pulsato DC e microonde. Permette il controllo termico durante la deposizione e il riscaldamento del substrato fino a 550ºC. Il sistema è anche equipaggiato con una sorgente magnetron sputtering che permette lo sviluppo di processi ibridi.
Impianto per la deposizione PECVD che consente l’uso fino a tre differenti precursori. La camera di deposizione misura 900×900×900 mm³ ed è utilizzata per la ricerca e la produzione di piccole serie. Il plasma può essere generato mediante accoppiamento capacitivo RF, pulsato DC oppure microonde. La camera è dotata di un doppio sistema di pompaggio selezionabile (screw+root o screw+turbo) e consente l’uso di precursori corrosivi.
MP500 (Microcoat)
Questo sistema è principalmente finalizzato alla ricerca. Il plasma può essere generato mediante RF, pulsato DC e microonde. Permette il controllo termico durante la deposizione e il riscaldamento del substrato fino a 550ºC. Il sistema è anche equipaggiato con una sorgente magnetron sputtering che permette lo sviluppo di processi ibridi.
Linea di lavaggio
(Novatec)
Linea costituita da: un bagno per cleaning, un lavaggio in acqua, un lavaggio in acqua deionizzata e un asciugatore ad aria calda.
Linea costituita da: un bagno per cleaning, un lavaggio in acqua, un lavaggio in acqua deionizzata e un asciugatore ad aria calda.