Civen si è impegnata con questo progetto a rispondere alle crescenti esigenze metrologiche in ambito nanotecnologico sia mediante la ricerca e lo sviluppo di nuove tecniche di caratterizzazione geometrica e meccanica su scala micro- e nano-metrica, sia nell’applicazione di consolidate tecniche di caratterizzazione nanometrologica a supporto delle varie attività di ricerca presenti presso l’ente in diversi ambiti quali lo sviluppo di nanostrutture per sensori chimici e biochimici, di rivestimenti e film sottili, di sistemi polimerici nanocompositi.
Per quanto riguarda la caratterizzazione geometrica, Civen può contare su quattro microscopi a forza atomica (AFM), una tecnica ormai consolidata e riconosciuta come riferimento anche in nanometrologia. Le molteplici possibilità di combinazione in termini di sistemi di scansione, stage in temperatura, controllo ambientale e tecniche usate consentono caratterizzazioni geometriche e di rugosità con elevato grado di risoluzione ed accuratezza e mirate alle diverse necessità metrologiche. Periodiche tarature assicurano la riferibilità delle misure stesse, consentendo analisi qualitative e quantitative.
Per la caratterizzazione meccanica/tribologica, si sta inoltre lavorando sulla definizione di protocolli per la misura della durezza e del modulo elastico in funzione della temperatura fino a 500°C. A tale scopo vengono utilizzate sia tecniche di nano-indentazione e microscratch, sia tecniche di microscopia a forza atomica e a contrasto acustico (AFM e AFAM), capaci di fornire misure topografiche e meccaniche con risoluzione laterale dell’ordine della decina di nm su materiali e film sottili.
Infine per la caratterizzazione ottica con questo progetto si vuole approfondire le metodiche metrologiche e le specifiche tipiche della microscopia ottica a campo prossimo (SNOM), cercando di definire dei protocolli di misura e standard di riferimento allo scopo di valutare l’applicabilità di questa tecnica a livello industriale.