Questo progetto punta ad ottenere il controllo della morfologia superficiale in substrati polimerici mediante trattamento di etching in plasma per generazione di superfici antiriflettenti nello spettro del visibile. Tali superfici sono caratterizzate da avere una struttura colonnare con dimensione laterale delle colonne inferiore ai 100nm e altezza superiore ai 100nm. Tali strutture creano una regione di interfaccia con indice di rifrazione progressivo e graduale tra quello dell’aria e del mezzo grazie ad un accurato controllo degli spazi pieni e vuoti: la luce non trova all’interfaccia una discontinuità netta e la attraversa con minori perdite in riflessione. Lo stesso obiettivo può essere conseguito mediante deposizione di strati sottili e trasparenti mediante PVD Magnetron Sputtering con morfologia superficiale e microstruttura controllate. Buoni risultati sono stati finora raggiunti mediante sintesi di rivestimenti a base di ossido di silicio con un aumento della trasmittanza su un vetrino da microscopio ricoperto da un solo lato dal 91 al 94%. Grazie al controllo del processo è possibile crescere strutture tridimensionali di particolare interesse ad esempio nel campo della sensoristica e dell’ottica. Queste strutture colonnari cresciute tramite PVD possono essere realizzate con qualsiasi materiale: di particolare interesse possono essere ZnO e TiO2 per le propietà conduttive, fotocatalitiche e superidrofiliche. La riduzione della luce riflessa senza la generazione di diffusione consente grandi vantaggi in applicazioni come, ad esempio, le celle solari o i display.